詳細(xì)摘要： 伯東 Pfeiffer 真空泵用于同位素測(cè)試儀器

詳細(xì)摘要： 伯東 Pfeiffer 真空泵 Hipace 1200及ACP 40用于制冷項(xiàng)目

詳細(xì)摘要： 伯東 Pfeiffer 真空泵用于真空管式爐

詳細(xì)摘要： 伯東 Pfeiffer 真空泵在分子束外延MBE設(shè)備上的應(yīng)用

詳細(xì)摘要： 伯東 Pfeiffer 真空泵在石墨烯生長(zhǎng)裝置的應(yīng)用

詳細(xì)摘要： 普發(fā)分子泵常見問(wèn)題

詳細(xì)摘要： 渦輪分子泵的壓縮比定義

詳細(xì)摘要： 分子泵內(nèi)部油潤(rùn)滑與脂潤(rùn)滑區(qū)別

詳細(xì)摘要： Pfeiffer 旋片泵日常保養(yǎng)及常見故障

詳細(xì)摘要： Hicube 80 Eco分子泵組用于搭配低溫阻抗測(cè)試儀

詳細(xì)摘要： 氦質(zhì)譜檢漏儀回旋加速器檢漏

詳細(xì)摘要： 上海伯東提供金屬焊接波紋管檢漏方案

詳細(xì)摘要： 檢漏儀應(yīng)用于半導(dǎo)體新材料和設(shè)備管道檢漏

詳細(xì)摘要： KRi 離子源應(yīng)用于藍(lán)玻璃 AR 工藝

詳細(xì)摘要： 上海伯東提供適用于光學(xué)鍍膜機(jī)的離子源和真空系統(tǒng)

詳細(xì)摘要： 美國(guó) KRi 射頻離子源應(yīng)用于氧化物薄膜及異質(zhì)結(jié)制備系統(tǒng)

詳細(xì)摘要： 美國(guó) KRi 霍爾離子源不規(guī)則電子晶片蒸鍍前清洗

詳細(xì)摘要： 上海伯東KRI離子源在半導(dǎo)體材料中的預(yù)清洗及刻蝕應(yīng)用

詳細(xì)摘要： 上海伯東KRI 離子源在鍺基紅外鍍膜中的應(yīng)用

詳細(xì)摘要： KRI 霍爾離子源應(yīng)用于黑膜鍍制