產品簡介:
處理氣量:(1-1500)Nm3/h
壓力:≤5.0Mpa
氫氣純度:≥99.9995%
露點:≤-70℃
含氧量:≤1.5ppm
廣泛應用于:
熔硅單晶爐配套使用,激光器、濺射、半導體生產,氣相色譜儀、特殊燈泡稀有金屬加工等需要用高純氬氣的有關科研和生產部門。
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處理氣量:(1-1500)Nm3/h
壓力:≤5.0Mpa
氫氣純度:≥99.9995%
露點:≤-70℃
含氧量:≤1.5ppm
廣泛應用于:
熔硅單晶爐配套使用,激光器、濺射、半導體生產,氣相色譜儀、特殊燈泡稀有金屬加工等需要用高純氬氣的有關科研和生產部門。
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