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MicroSam是一種位于Ex-d 外殼中的小型過(guò)程氣相色譜儀(GC)。通過(guò)微系統(tǒng)技術(shù)(硅片技術(shù))的統(tǒng)一使用,所有分析組件均集中在最小可能區(qū)域中。該設(shè)計(jì)可顯著實(shí)現(xiàn)靠近相關(guān)過(guò)程的分布式安裝。
概述
MicroSam是一種位于Ex-d 外殼中的小型過(guò)程氣相色譜儀(GC)。通過(guò)微系統(tǒng)技術(shù)(硅片技術(shù))的統(tǒng)一使用,所有分析組件均集中在最小可能區(qū)域中。該設(shè)計(jì)可顯著實(shí)現(xiàn)靠近相關(guān)過(guò)程的分布式安裝
優(yōu)勢(shì)
· 分布式現(xiàn)場(chǎng)安裝可降低投資成本,并打開(kāi)新的應(yīng)用領(lǐng)域,例如:
· 安裝不可能在分析儀傘范圍內(nèi)進(jìn)行安裝的生產(chǎn)裝置區(qū)域中
· 安裝在無(wú)擴(kuò)展基礎(chǔ)設(shè)施的遠(yuǎn)程位置
· 通過(guò)聯(lián)機(jī)測(cè)量簡(jiǎn)化實(shí)驗(yàn)室分析。
· 分析機(jī)柜中的低空間要求降低了投資成本。
· 低維護(hù)需求和氣體/能源消耗降低了成本
· 高分辨率毛細(xì)管柱可實(shí)現(xiàn)快速分析。
· 實(shí)時(shí)注入允許代表性的試樣注入。
· 使用電子壓力控制器實(shí)現(xiàn)了免維護(hù)、無(wú)閥分離柱開(kāi)關(guān)
· 使用多個(gè)微熱導(dǎo)率檢測(cè)器(多檢測(cè)器)能夠提供準(zhǔn)確的測(cè)量結(jié)果和確認(rèn)。
· 適合維護(hù)和保護(hù)數(shù)據(jù)傳輸?shù)耐ㄓ眠B網(wǎng)可能性
· 通過(guò)基于Windows的軟件和以太網(wǎng)通信的實(shí)現(xiàn)遠(yuǎn)程監(jiān)控。
· 通過(guò)更換模塊的方式簡(jiǎn)化了維修
應(yīng)用
化工行業(yè)
· 分析 1.2 二氯乙烷 (EDC) 中的乙烯,用于過(guò)程控制
· 過(guò)程控制用乙炔中氮?dú)獾目焖贉y(cè)定
· 裂化裝置開(kāi)始產(chǎn)物(LPG)的烴分析
· 油輪卸貨期間乙撐氧的安全測(cè)量
· 乙撐氧中的多組分分析
· 試驗(yàn)工場(chǎng)中甲醇、水和二甲醚的分析
· 冷卻劑監(jiān)控:氯代甲烷痕量監(jiān)控
· 分析氯堿廠純氣中的氮?dú)夂蜌錃?
石油和天然氣
· 循環(huán)氣體和其他工藝氣體中的氫氣分析
· 燃燒氣體中惰性氣體和低沸石蠟的分析
· 重整裝置/鉑重整裝置中氫氣和低沸烴的分析
· 裂化裝置乙炔中雜質(zhì)的痕量分析
· 裂化裝置乙烯中乙烷的分析
· 電廠質(zhì)量控制排放氣體發(fā)熱值的測(cè)量
· 乙烯裝置甲烷中乙烯的分析
· 蒸汽裂化裝置C2分餾塔中丙二烯和丙炔的分析
· 乙烯裝置/減粘裂化爐中低沸烴的分析
· 火炬排放氣體的分析
· 環(huán)氧丙烷裝置中氣體回路的分析
· 分析 LDPE
(低密度聚乙烯)廠裂解氣中的一氧化碳
· 試驗(yàn)工場(chǎng)煉廠氣的分析
· 天然氣制備廠發(fā)熱值分析
· 鋼鐵
· 高爐排放氣體分析。
制藥工業(yè)
· 發(fā)酵過(guò)程中 O2、N2、CO2和水的分析
· 真空干燥裝置氮?dú)庵幸掖嫉姆治?
· 金屬材料、集料、水泥
· 惰性氣體和烴礦山氣體的分析
設(shè)計(jì)
外殼
· Ex d 型標(biāo)準(zhǔn)
· 加熱可調(diào)節(jié)從 60 到 165°C(等溫)
· 分散安裝在取樣點(diǎn)附近
分析模塊
緊湊分析模塊含有色譜儀的所有功能組件。MicroSam可與以下各項(xiàng)一起工作:
· 實(shí)時(shí)注入
· 基于微芯片的無(wú)閥實(shí)時(shí)切換
· 標(biāo)準(zhǔn)化分析模塊
· 通過(guò)在允許的最小區(qū)域(例如,在所有色譜柱/吹掃輸出和注射口上)中使用多達(dá) 8 個(gè)微型熱導(dǎo)檢測(cè)器 (TCD),實(shí)現(xiàn)多功能檢測(cè)
功能
實(shí)時(shí)注入
MicroSam配有一個(gè)兩段式注入系統(tǒng)。利用一個(gè)微型注入閥,首先讓規(guī)定數(shù)量的試樣達(dá)到載氣壓力。這消除了采用常規(guī)系統(tǒng)所存在定量中的壓力依賴(lài)型誤差。在第二個(gè)階段中,通過(guò)無(wú)閥門(mén)的微型注射系統(tǒng)(即時(shí)定量給料)將樣品輸送到色譜柱。其結(jié)果是"有效"注入。
注入體積可按時(shí)間控制進(jìn)行變化,并與色譜柱要求精確匹配。
無(wú)閥實(shí)時(shí)柱切換
由于常規(guī)閥門(mén)的高死體積,因此,只有無(wú)閥型可考慮用于小型系統(tǒng)。在此種情況下,利用色譜柱設(shè)置相應(yīng)位置處幾個(gè)電子壓力調(diào)節(jié)器的差異產(chǎn)生可造成流動(dòng)方向的變化。(該系統(tǒng)根據(jù)惠斯登(Wheatstone)原理進(jìn)行工作,但以氣動(dòng)方式進(jìn)行。)然后,可實(shí)施功能"切割"和"反吹",無(wú)死體積。
色譜柱系統(tǒng)
色譜柱系統(tǒng)由兩個(gè)或三個(gè)按順序連接的毛細(xì)管柱組成。Micro TCD或微型實(shí)時(shí)電路按順序安裝在("內(nèi)嵌") 單獨(dú)色譜柱的上游和下游。三個(gè)電子壓力調(diào)節(jié)器為色譜柱提供載氣,并執(zhí)行切換功能(注入、反吹和切割)。
通過(guò)使用窄孔毛細(xì)管柱,在更短的時(shí)間內(nèi)進(jìn)行高分辨率分離,約系數(shù)2到3(與標(biāo)準(zhǔn)毛細(xì)管柱相比)。
電子壓力調(diào)節(jié)器
精確、快速切換需要高壓力穩(wěn)定性以及hPa范圍內(nèi)的快速變化率。這是通過(guò)壓電執(zhí)行器在電子壓力調(diào)節(jié)器中實(shí)現(xiàn)的。
檢測(cè)器
微型 TCD(基于硅片技術(shù))工作原理為連續(xù)測(cè)量被測(cè)載氣和組分的不同導(dǎo)熱性。
通過(guò)避免在加熱絲上催化影響,并保持恒定流量,可在無(wú)歪曲條件下進(jìn)行測(cè)量。這可實(shí)現(xiàn)始終如一的嵌入管線檢測(cè),即,無(wú)數(shù)量和質(zhì)量上物質(zhì)損失。
應(yīng)用模塊
應(yīng)用模塊含有實(shí)時(shí)注入和實(shí)時(shí)切換。模塊 D06、D08 和 D11 比模塊 D01、D02 和 D09 少一個(gè)分離柱。模塊 D06、D08 和 D11 比模塊 D01 和 D02 少一個(gè)檢測(cè)器。應(yīng)用模塊適合下述組分的分離。但是,為具體客戶(hù)的實(shí)際測(cè)量任務(wù)選擇合適的應(yīng)用模塊時(shí),必須由我們的支持團(tuán)隊(duì)進(jìn)行相應(yīng)的技術(shù)評(píng)估。
D01、D02 和 D08:
這些模塊含有分離柱,載氣中的濕氣可能損害它們的分離性能。因此,對(duì)于這些模塊,訂貨號(hào) A5E00400116),集成在 MicroSAM 的支撐架上或作為單獨(dú)的部件提供。
應(yīng)用模塊適合下述組分的分離。
| 檢測(cè)器 | 1 欄 | 檢測(cè)器 | 2 欄 | 檢測(cè)器 | 電路 | 3 欄 | 檢測(cè)器 |
D01 | | | | | | | | |
注入 | TCD | Sil5 C3, C4, C5, C6+ | TCD | PoraPLOT/Porabond Q CO2, C2, H2S, H2O | TCD | 在線 | 分子過(guò)濾器 H2, (Ar+O2), N2, C1, CO | TCD |
D02 | | | | | | | | |
注入 | TCD | Sil5 C5+ | TCD | SilicaPLOT C2, C3, C4 (飽和,不飽和), C5+ | TCD | 在線 | 分子過(guò)濾器 H2, (Ar+O2), N2, C1, CO | TCD |
D09 | | | | | | | | |
注入 | - | Sil5 非極性芳族和脂肪族烴 | TCD | Sil5 非極性芳族和脂肪族烴 | TCD | 在線 | Porabond Q 除分子過(guò)濾器組件的所有組件 | TCD |
應(yīng)用模塊 D01、 D02 和 D09
| 檢測(cè)器 | 1 欄 | 檢測(cè)器 | 電路 | 2 欄 | 檢測(cè)器 |
D06 | | | | | | |
注入 | TCD | Sil5 非極性芳族和脂肪族烴 | TCD | 在線 | Sil5 非極性芳族和脂肪族烴 | TCD |
D08 | | | | | | |
注入 | TCD | Porabond Q 除分子過(guò)濾器組件的所有組件 | TCD | 在線 | 分子過(guò)濾器 H2, (Ar+O2), N2, C1, CO | TCD |
D11 | | | | | | |
注入 | TCD | RTX-5+RTX-200 非極性芳族和脂肪族烴和介質(zhì)極性組分(例如,氯代硅烷) | TCD | 在線 | SilicaPLOT C2, C3, C4, C5, C6 (飽和,不飽和) | TCD |
應(yīng)用模塊 D06、D08 和 D11
應(yīng)用
可提供各種解決方案概念:
· 調(diào)整無(wú)方法開(kāi)發(fā)(按要求)
· 工廠測(cè)試
應(yīng)用模塊為標(biāo)準(zhǔn)化模塊。MicroSAM 的功能由于采用特定的載氣、確切設(shè)定的烘干爐溫度和載氣入口壓力,以及標(biāo)準(zhǔn)低校準(zhǔn)氣,得到了充分保證。所測(cè)組分和切換功能(實(shí)時(shí)注入、反吹、切割)進(jìn)行保存。
· 現(xiàn)場(chǎng)調(diào)試
所有應(yīng)用模塊塊為標(biāo)準(zhǔn)化模塊,即,分析硬件進(jìn)行規(guī)定,無(wú)法變更。調(diào)試期間在現(xiàn)場(chǎng)進(jìn)行專(zhuān)門(mén)設(shè)置。
· 調(diào)節(jié)有方法開(kāi)發(fā)
非標(biāo)準(zhǔn)化應(yīng)用需要專(zhuān)門(mén)的方法開(kāi)發(fā):
在現(xiàn)有技術(shù)規(guī)范和一種選定標(biāo)定氣體或通過(guò)采用客戶(hù)試樣的基礎(chǔ)上提煉出一套解決方案。
技術(shù)規(guī)范
設(shè)計(jì),外殼 | |
重量 | 15 kg |
防護(hù)等級(jí) | IP65 (NEMA 4X) |
安裝 | |
安裝在 | 立柱、管道或墻壁上 |
距墻壁或下一個(gè)色譜儀的距離 | 300 mm (12") |
距天花板或地面的距離 | 200 mm (8") |
防爆 | ATEX 和 IEC Ex:II 2 G Ex d IIC T4 Gb Class I, Zone 1, Group IIB + H2 T4 Class I, Div 1, Group B, C, D T4 工廠密封 |
支架 | |
· 安裝部件,外形尺寸(D x H) | 380 x 110 mm |
· 氣體連接 | 8 |
· 氣體連接支,外形尺寸(D x H),右側(cè)支架,安裝在右角 | 146 x 110 mm |
電氣性能 | |
輔助電源 | 24 V DC (18.5 ... 30.2 V) |
功耗 | |
· 典型值 | 18 W |
· 值 | 60 W |
· 電氣安全 | IEC 61010 / DIN VDE 0411 |
EMC 抗擾度 | 符合標(biāo)準(zhǔn) IEC 60801/DIN VDE 0843 |
· 對(duì)交流供電線進(jìn)行干擾 | |
· 符合部分4(猝發(fā)) | 2 kV |
· 符合部分5(ms脈沖),線對(duì)線 | 1 kV |
· 符合部分5(ms脈沖),線對(duì)地 | 2 kV |
· 對(duì)信號(hào)線進(jìn)行干擾 | |
· 符合部分4(猝發(fā)) | 1 kV |
· 抗靜電放電干擾 | |
· 符合部分2(靜電放電) | 8 kV |
· 現(xiàn)場(chǎng)抗擾度 | |
· 符合部分3和部分6 | 10 V / m |
· 噪聲抑制 | 符合CISPR 11 / EN 55011 / DIN VDE 0875限值等級(jí) B |
· 熔斷器 | T2.5 A |
氣體進(jìn)口條件 | |
容許樣品壓力 | 大氣壓力以上10 ?60 kPa |
試樣流量 | 20 … 100 ml/min |
試樣溫度 | 120°C |
固體組分 | < 0.1 mm |
氣候條件 | |
允許環(huán)境溫度 | - 20 ... 50 °C (取決于爐溫) |
允許的貯存/運(yùn)輸溫度 | - 30 ... 70 °C |
允許的相對(duì)濕度 | 90% |
取樣和注入 | |
試樣流 | 3 |
標(biāo)定試樣流 | 1 |
相 | 氣相 |
需要過(guò)濾 | 分離程度 99.99 % ,適合 <0.1μm 顆粒 |
與試樣相接觸部件的材質(zhì) | 不銹鋼、熔融石英、聚酰亞胺 |
注入 | "無(wú)閥" 實(shí)時(shí)注入 |
· 控制器 | 配有多功能隔膜閥 |
· 利用開(kāi)關(guān)時(shí)間可調(diào)節(jié)注入體積 | 2 ... 50 µl |
· 工作溫度 | 165 °C |
烤箱 | |
數(shù)量/類(lèi)型 | 1/等溫 |
用N2進(jìn)行吹掃 | 可能 |
外形尺寸(DxH) | 160 x 10 mm |
加熱能量 | 20 W |
溫度范圍 | 60 … 155 °C |
溫度穩(wěn)定性 | ± 0.1 K (60 ... 155 °C) |
溫度準(zhǔn)確度 | ± 3 K (60 ... 155 °C) |
保留時(shí)間變動(dòng)/每 10 °C 環(huán)境溫度變化 | 約 0.3% |
加熱時(shí)間段從 30 ...100 °C | 10 minutes |
色譜柱和氣體 | |
色譜柱類(lèi)型 | 毛細(xì)管柱 0.15 ... 0.25 mm/內(nèi)部 |
分離柱開(kāi)關(guān) | 采用實(shí)時(shí)系統(tǒng)中反吹和切割的多維色譜法 |
多功能隔膜閥 | 用于注入和反吹 |
氣體連接 | Swagelok 1/8" |
壓力調(diào)節(jié)器 | 4單獨(dú)通道電子壓力調(diào)節(jié)器 |
隔膜閥控制電磁閥 | 2個(gè)常閉觸點(diǎn),2個(gè)常開(kāi)觸點(diǎn) |
載氣 | H2, N2, He, Ar |
· 氣體純度(要求) | > 99.999 % (5.0) |
· 固體組分 | < 0.1 μm |
· 需要過(guò)濾 | 分離程度 99.99 % ,適合 0.1μm 顆粒 |
· 消耗量 | 10 ... 60 ml/min |
· 入口壓力 | 500 …700 kPa (g) 建議 600 kPa (g) 重要 運(yùn)行需要保持連續(xù)的載氣供應(yīng) (載氣頻繁中斷對(duì)測(cè)試儀器的壽命及設(shè)備內(nèi)部的壓力調(diào)節(jié)器均有消極影響)。 另外,強(qiáng)烈建議采用外部雙層壓力調(diào)節(jié)器調(diào)節(jié)載氣壓力。 |
儀表空氣 | 不需要 |
檢測(cè)器標(biāo)定和性能數(shù)據(jù) | |
檢測(cè)器類(lèi)型 | TCD,最多 8 個(gè)傳感器 |
環(huán)境溫度 | 可忽略 |
槽體積 | |
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