微電腦二氧化硅濃度測定儀HI770 返回列表頁

HI770

微電腦二氧化硅（HR）濃度測定儀

范圍：0 to 200 mg/ L（ppm）SiO2

校零、檢查和測量過程，一鍵完成

用于現場快速精確分析

產品概述：

二氧化硅在溶解礦物質的天然水體中存在。但在工業應用中卻不希望有二氧化硅的存在，因為二氧化硅會引起結垢現象。

特別是高壓管道中更易受二氧化硅的影響。

加熱系統和反滲透工廠也有必要監測二氧化硅。

性能特點

優良的光學系統設計，人性化確認操作，保證儀器的良好校準；

易讀LCD顯示屏，人性化顯示界面，操作簡單、快捷；

倒計時功能，試劑與樣品反應時間一致性，確保測量精確度；

操作簡單，出廠前內置標準曲線標定，確保儀器性能；

高精度測量結果，光源防塵測量系統，自動關機節電模式

優良防水性能，適用于實驗室和現場快速樣品分析測量。

儀器在使用一段時間后，儀器光學系統將會衰減，造成內部設置的標準曲線會出現漂移，影響測量數據可靠性和準確性。

CHECKTM性能核查功能，使用專用NIST二氧化硅標準核查組定期（頻繁使用，1-3個月標準核查一次，常規情況下，半年標準核查一次）對儀器進行檢查，測量值在NIST標準值范圍內，儀器光學系統為，如果偏離標準值范圍較大，應該及時送檢。

專用NIST二氧化硅標準核查組，保存和使用應在18 to 25°C（64.5 to 77°F）溫度范圍內，非Hanna 品牌專用二氧化硅標準核查組，并不能確保其標準值真實性。

技術參數：

測量范圍：0 to 200 mg/ L（ppm）SiO2

解 析 度：1 mg/L（ppm）

測量精度：讀數±5% ± 2 mg/L @ 25°C

測量方法：參照USEPA METHOD 370.1（適用于飲用水，海水，市政和工業廢水）和Standard Method 4500-SiO2 C標準方法

光學系統：定制專用接收器暨光源系統

電源模式：1 x 1.5V 電池，在測量模式下，10分鐘不用后自動關機

使用環境：0 to 50°C（32 to 122°F），RH max 95%，無冷凝

尺寸重量：主機尺寸：81.5 x 61 x 37.5 mm，主機重量：64g

標準配置：

HI770

主機，HI770-25 專用二氧化硅試劑，HI731313H 定制專用玻璃比色皿（2個），HI731318 專用玻璃比色皿清潔布（2塊），中英文使用說明書，HI721025 定制專用攜帶盒

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