Agilent 串聯(lián)四極桿 ICP-MS 8900

Agilent 8900 串聯(lián)四極桿 ICP-MS (ICP-MS/MS) 是行業(yè)中成功且應(yīng)用廣泛的串聯(lián)電感耦合等離子體質(zhì)譜儀。Agilent 8900 ICP-MS/MS 提供了一系列配置，適合從常規(guī)商業(yè)分析到高級研究和高純度材料分析的應(yīng)用，其重新定義了 ICP-MS 性能，可提供可靠的分析結(jié)果。

8900 系統(tǒng)具有與安捷倫市場的單四極桿 ICP-MS 系統(tǒng)相同的基質(zhì)耐受性和穩(wěn)定性，并與超高效的氦 (He) 碰撞模式相結(jié)合。但 8900 系統(tǒng)增加了串聯(lián)質(zhì)譜操作 (ICP-MS/MS)，可對碰撞反應(yīng)池 (CRC) 中的反應(yīng)化學(xué)過程進(jìn)行精確的控制，使其成為強(qiáng)大、靈活的多元素分析儀。利用 8900 ICP-MS/MS 控制干擾，讓您的結(jié)果可靠無疑。

特性

• MS/MS 控制反應(yīng)化學(xué)過程，可確保提供一致、可靠的結(jié)果，即使對于此前難以分析的元素（如 Si、P 和 S）也是如此
• 反應(yīng)化學(xué)過程可解決同量異位素重疊問題，這超出了高分辨率 ICP-MS 的能力
• 四通道反應(yīng)池氣體控制可提供快速、靈活的多模式操作
• 一套預(yù)設(shè)方法簡化了常規(guī)分析的方法設(shè)置
• 氦氣模式可簡單、有效地控制常見的多原子干擾
• 穩(wěn)定的（低 CeO/Ce）等離子體，可提供出色的基質(zhì)耐受性
• 超高基質(zhì)進(jìn)樣 (UHMI) 技術(shù)可耐受總?cè)芙夤腆w量 (TDS) 高達(dá) 25% 的樣品
• 高靈敏度和低背景為超痕量分析物提供了超低的檢測限
• 通用性和高性能相結(jié)合，支持高級研究和要求苛刻的應(yīng)用
• 靈活的操作模式（母離子/產(chǎn)物離子掃描）支持對反應(yīng)化學(xué)模式進(jìn)行研究

精準(zhǔn)無憂，掃清一切檢測干擾

第二代 Agilent 8900 ICP-MS/MS 助您更輕松地 實現(xiàn)可靠的干擾去除。

2012 年，安捷倫推出了 Agilent 8800，該系統(tǒng)是世界上具有 MS/MS 功能的串聯(lián)四極桿 ICP-MS (ICP-MS/MS)。 這款開創(chuàng)性儀器為世界各地的成百上千個實驗室開辟了新 的分析前景。

第二代 Agilent 8900 ICP-MS/MS 適用于從常規(guī)的商業(yè)檢測 到研究和材料分析的各種情形。8900 ICP-MS/MS 具有的安捷倫四極桿 ICP-MS 系統(tǒng)的氦氣模式性能和分析效 率。此外，該系統(tǒng)具有 MS/MS 模式，能夠在反應(yīng)模式下 實現(xiàn)一致且受控的干擾去除。此功能使其成為強(qiáng)大且靈活 的多元素分析儀

MS/MS 在反應(yīng)氣方法中的優(yōu)勢

成熟的 ICP-MS/MS 技術(shù)

安捷倫的串聯(lián)四極桿 ICP-MS 采用 MS/MS 技術(shù)，使成百上千實驗室具備了的 分析能力。

ICP-MS/MS 讓您信心十足

Agilent 8900 ICP-MS/MS 為現(xiàn)有多元素 ICP-MS 應(yīng)用提供了出色的性能。8900 還引入了以前 ICP-MS 無法實現(xiàn)的分析功能。先前難以分析的低濃度元素的測定、同質(zhì)異位素直接重疊的分離以及新興 納米材料的快速痕量分析將 ICP-MS 的應(yīng)用擴(kuò)展到全新的分析領(lǐng)域。

Si 和 S 的超痕量分析

Si 和 S 會受到多原子干擾的嚴(yán)重影響，之前使用單四極桿 ICP-MS 可能無法對 ng/L (ppt) 級 Si 和 S 進(jìn)行測量。 ICP-MS/MS 使用 MS/MS 和反應(yīng)池氣體提供了可靠的干擾 消除方法。8900 ICP-MS/MS 高級應(yīng)用配置和半導(dǎo)體配置 采用的新型氣體流量系統(tǒng)可大大減小 Si 和 S 污染，從而實 現(xiàn)了對硅和硫出色的背景控制。

下列校準(zhǔn)曲線表明使用 8900 ICP-MS/MS 在 MS/MS 模式下 以 O2 作為池氣體獲得的小于 10 ng/L 的 Si（上圖）和 S（下 圖）檢測限 (DLs)。

分離同質(zhì)異位素重疊

ICP-MS/MS 在 1 amu 的標(biāo)稱分辨率下運(yùn)行時如何提供優(yōu) 于高分辨率 (HR) 扇形磁場 ICP-MS 的分辨能力？答案是利 用 MS/MS 模式實現(xiàn)化學(xué)反應(yīng)過程的選擇性。通過選擇與一 種元素反應(yīng)而不與另一種元素反應(yīng)的池氣體，ICP-MS/MS 可使用 MS/MS 模式直接分離重疊的同質(zhì)異位素。同質(zhì) 異位素是質(zhì)量數(shù)相同的不同元素的同位素，例如 204Hg 和 204Pb。分離此類同質(zhì)異位素所需要的質(zhì)量分辨率 (M/DM) 遠(yuǎn)超出商品化 HR-ICP-MS 的性能。

在地球化學(xué)、地質(zhì)年代學(xué)和核科學(xué)領(lǐng)域中有很多應(yīng)用方法 由于同質(zhì)異位素的重疊會導(dǎo)致難以實現(xiàn)準(zhǔn)確分析。例如地 質(zhì)年代學(xué)中 176Hf/177Hf 比的準(zhǔn)確測定、使用 Pb/Pb 和 Pb/U 的地質(zhì)定齡以及 Rb-Sr 比分析。在核科學(xué)中，93Zr、151Sm 和 129I 等放射性同位素經(jīng)常與其他元素的天然同位素發(fā) 生重疊。使用 ICP-MS/MS 和反應(yīng)池氣體可以分離同質(zhì)異 位素。

以下譜圖顯示了使用 Agilent 8900 ICP-MS/MS 測得的以 Hf(NH2)(NH3)4 + 產(chǎn)物離子形式存在的 Hf。MS/MS 能夠在 Lu、Yb 及可能在 m/z 176 處發(fā)生重疊的其他基質(zhì)元素存在 時準(zhǔn)確測量 176/177Hf 同位素比。

使用 MS/MS 模式準(zhǔn)確分析硫和硫同位素比

使用 O2 作為反應(yīng)氣，可將 S 作為其產(chǎn)物離子 SO+ 在 m/z 48 （針對 32S 主同位素）、49 和 50 處進(jìn)行測量。測量多種同 位素時，可使用同位素稀釋法 (ID) 進(jìn)行 S 同位素比分析和 準(zhǔn)確的定量分析。具備 MS/MS 功能的 8900 ICP-MS/MS 對此應(yīng)用非常重要，因為不用 MS/MS 進(jìn)行測量時，碳、 鈣和鈦會對產(chǎn)物離子 SO+ 產(chǎn)生干擾，如下圖所示。

使用單顆粒/細(xì)胞 ICP-MS (sp/scICP-MS) 表征納米

顆粒 (NP) 8900 ICP-MS/MS 可提供的靈敏度和最短駐留時間為 0.1 ms 的快速時間分辨分析 (TRA)。高靈敏度、高速與高 效干擾去除相結(jié)合，將現(xiàn)有納米顆粒分析范圍擴(kuò)展至包括 含有 Si、S、Fe 和 Ti 等元素的顆粒。這些納米顆粒用單四 極桿 ICP-MS 難以測量。

MS/MS 功能助您掃清一切干擾

超高基質(zhì)進(jìn)樣系統(tǒng) (UHMI)

UHMI 將基質(zhì)耐受性提高到 25% 的總?cè)芙?態(tài)固體 (TDS)。UHMI 是 8900 標(biāo)準(zhǔn)和高級 應(yīng)用配置的標(biāo)配，確保可常規(guī)測量高基質(zhì) 樣品并消除基質(zhì)抑制效應(yīng)。

樣品引入

低流量帕爾貼半導(dǎo)體制冷進(jìn)樣系統(tǒng)提供了 高穩(wěn)定性和一致性。可選的集成樣品引入 系統(tǒng) (ISIS 3) 增配了活塞泵和緊密連接的 7 通 閥，可實現(xiàn)高速離散進(jìn)樣。

氣體控制

用于等離子體氣體的四通道氬氣質(zhì)量流量控制。高級應(yīng)用配置和 半導(dǎo)體配置包括第 5 路（可選）氣體控制器和低 Si/S 氬氣流路。

27 MHz 等離子體 RF 發(fā)生器

高速頻率匹配 RF 發(fā)生器提供超高的功率傳輸效率，可耐受包括 揮發(fā)性有機(jī)溶劑在內(nèi)不斷變化的樣品基質(zhì)。

等離子體與屏蔽炬系統(tǒng) (STS)

提供的高能量可實現(xiàn)有效的基質(zhì)解離，精密離子能量控制還可在 氦氣模式下實現(xiàn)有效的干擾去除。常規(guī)維護(hù)后還可自動校準(zhǔn)炬管。

接口錐

Ni 或 Pt 錐提供了出色的基質(zhì)耐受性和高靈敏度。螺紋設(shè)計便于 在常規(guī)維護(hù)過程中拆卸。

離子透鏡

雙提取透鏡和離軸 Omega 透鏡在單個優(yōu)化的接口中 提供了高離子傳輸效率和基質(zhì)耐受性。離子透鏡位 于高真空區(qū)域以外，易于進(jìn)行常規(guī)維護(hù)。

個四極桿質(zhì)量過濾器 (Q1)

高頻雙曲面四極桿質(zhì)量過濾器。在 MS/MS 中，Q1 在 0.7 u 分辨率 下運(yùn)行，將剔除目標(biāo)分析物質(zhì)量數(shù)以外的所有離子，從而控制反 應(yīng)池中的化學(xué)反應(yīng)過程。

第四代八極桿反應(yīng)池系統(tǒng) (ORS4 )

帶有 4 通道氣體流量控制器的溫控型碰 撞/反應(yīng)池可靈活應(yīng)用于池氣體方法中。 既可在氦氣 (He) 模式下運(yùn)行，也可利用 MS/MS 功能在反應(yīng)模式下實現(xiàn)有效而一 致的干擾控制。軸向加速（高級應(yīng)用配置 和半導(dǎo)體配置）提高了靈敏度，并可控制 高階產(chǎn)物離子的形成。

電子倍增檢測器

雙模式離散打拿級電子倍增器可提供高達(dá) 11 個數(shù)量級的動態(tài)范 圍。超短的 (0.1 ms) 最小駐留時間支持瞬時信號的快速分析（ Cap-LC、GC、單納米顆粒和激光剝蝕）。

第二個四極桿質(zhì)量過濾器 (Q2)

第二個高頻雙曲面四極桿質(zhì)量過濾器通常也在 0.7 u 的分辨率下 運(yùn)行。Q2 選擇出現(xiàn)在池出口處的離子，只讓目標(biāo)分析離子/產(chǎn)物 離子通過至檢測器。

真空系統(tǒng)

高性能 4 級泵系統(tǒng)，包括一個叉分式渦輪泵、另一個渦輪泵和一個 外置機(jī)械泵。增強(qiáng)的真空性能使 8900 ICP-MS/MS 具有超高的靈敏 度以及低背景，同時確保 Q1 實現(xiàn) MS/MS 所需的 < 1 u 分辨率。